1.什麼是掩膜
首先我們從物理的角度來看看mask到底是什麼過程。
在半導體制造中，許多芯片工藝步驟採用光刻技術，用於這些步驟的圖形“底片”稱爲掩膜（也稱作“掩模”），其作用是：在硅片上選定的區域中對一個不透明的圖形模板遮蓋，繼而下面的腐蝕或擴散將隻影響選定的區域以外的區域。
圖像掩膜與其類似，用選定的圖像、圖形或物體，對處理的圖像（全部或局部）進行遮擋，來控制圖像處理的區域或處理過程。
2.掩膜的用法
2.1 提取感興趣區：用預先製作的感興趣區掩膜與待處理圖像相乘，得到感興趣區圖像，感興趣區內圖像值保持不變，而區外圖像值都爲0；
2.2 屏蔽作用：用掩膜對圖像上某些區域作屏蔽，使其不參加處理或不參加處理參數的計算，或僅對屏蔽區作處理或統計；
2.3 結構特徵提取：用相似性變量或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩膜相似的結構特徵；
2.4 特殊形狀圖像的製作。
3.掩膜運算的一個小實例
以圖和掩膜的與運算爲例：
原圖中的每個像素和掩膜中的每個對應像素進行與運算。比如1 & 1 = 1；1 & 0 = 0；
比如一個3 * 3的圖像與3 * 3的掩膜進行運算，得到的結果圖像就是：
